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紅外顯微鏡的應用

2024-12-04(4866)次瀏覽

　　近紅外成像使您能夠對肉眼無法看到的電子元件進行顯微鏡檢測。以下是近紅外成像在工業...

近紅外成像使您能夠對肉眼無法看到的電子元件進行顯微鏡檢測。以下是近紅外成像在工業檢測中的一些強有力的方式：

1.檢查晶圓水平芯片級封裝（CSP）中的芯片損壞。

晶圓水平芯片級封裝是晶圓水平的集成電路封裝。使用顯微鏡的近紅外成像可用於對熱濕測試中出現的芯片損壞進行無損檢測。昆山紅外顯微鏡能夠透過矽成像，因此您可以觀察到熔煉泄漏、銅線腐蝕、樹脂工件剝落以及其他問題。

2.進行倒裝芯片無損分析。

顧名思義，倒裝芯片是一種將芯片有效麵積翻轉，直接安裝在基板、電路板或載體上的芯片封裝方法。一旦倒裝芯片被附著在工件上，就無法用可見光對芯片圖案進行檢測。相比之下，昆山紅外顯微鏡使您能夠透過矽對內部缺陷進行檢查，不會對已安裝的芯片造成破壞。這也是確定應進行聚焦離子束（FIB）處理區域的有效方法。

3.判斷晶圓研磨量。

晶圓研磨是一個午夜黄色视频网站設備生產步驟，目的是降低晶圓厚度。需通過研磨使設備變薄，因此對晶圓兩麵進行測量的需求也相應增加。然而，要測量疊層晶圓兩麵的研磨量非常困難。昆山紅外顯微鏡係統可以透過材料進行成像，在晶圓的正麵和背麵聚焦，使您能夠獲得大致距離。然後，您可以通過測量物鏡的Z軸移動狀態來判斷研磨的程度。

4.判斷3D安裝配置中的芯片縫隙。

紅外顯微鏡還可以協助進行矽縫隙管理。三維（3D）安裝配置中的芯片縫隙可以通過測量紅外光透過矽聚焦在芯片和中介層上時物鏡的移動狀態來進行無損判斷。這種方法也可用於微電子機械係統設備的測量和空心構造。

5.對一係列高難度樣品進行成像。

可使用較大的波長的短波紅外（SWIR）成像（如1300-1500納米範圍）對難度更高的樣品進行成像，例如微電子機械係統設備、重摻雜矽樣品、表麵粗糙的樣品、晶圓粘結和3D芯片堆棧。這種方法可以使用更敏感的成像係統，如砷化銦镓（InGaAs）攝像頭。在反射光或透射光顯微鏡下，專用紅外物鏡、高功率照明和InGaAs攝像頭所帶來的信號優勢，讓人們可以對難度更高的樣品進行成像。

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